展商名称：长春国科精密光学技术有限公司
展位号：5B176
展出产品：EpolithA1600型曝光光学系统
 
公司是中国超精密光学产业的开拓者和引领者。公司成立于2014年，总部位于长春市，在上海市设有分公司。通过承担“国家科技重大专项02专项”光刻机曝光光学系统研发任务，公司已拥有一支百余人的高素质研发团队，并建成了具有国际水平的超精密光机系统研发与制造平台。公司致力于高端光刻机光刻光学、投影光学、显微光学、多光谱信息融合成像探测等相关产品研发，并为国内外客户提供相应高端光学仪器产品、装备及系统级解决方案。

展品：EpolithA1600型曝光光学系统
 

      高端IC制造光刻机曝光光学系统是光刻机的“心脏”，是典型的超精密光学系统，是人类目前研制出的最为精密、最为复杂的光学仪器。
      长春国科精密光学技术有限公司研制的Epolith A1600型曝光光学系统是“国家科技重大专项02专项”的核心研究成果之一，是我国首套具有全部自主知识产权的90nm节点光刻机曝光光学系统。该套系统包括照明系统与投影物镜系统两大组成部分。其工作原理为：193nm ArF准分子激光首先由照明系统进行整形和匀光后为掩模面提供特定模式照明，经照明后的IC掩模图形经投影物镜以极高分辨率和极低畸变成像到涂胶硅片面上，最终实现IC掩模图形的完美复制。为实现上述并满足光刻机工艺要求，该套曝光光学系统具有大数值孔径、大视场、高速动态补偿能力、极高的热学/动力学像质稳定性、离轴照明、高均匀性照明等特点。
      公司采用面向复杂产品研发的集成化产品开发（IPD）策略及基于产品全生命周期管理的系统工程理念，成功实现了首套国产高端光刻机曝光光学系统的研制与交付。Epolith A1600型曝光光学系统的研制成功，标志我国超精密光学技术已跻身国际先进行列，并为浸没式光刻机曝光光学系统的研发与产业化奠定了良好的技术与产业化基础。

参数


典型应用产品：光刻机曝光光学系统（投影物镜，照明系统）;全口径高精度标准镜头（2/4/6/12英寸）

产品分类：IC支撑（设备及材料）
产品应用领域：元器件\电子制造设备\电力、能源设备